SK Hynix stellt moderne EUV-Technologie vor, schrumpft Transistoren und steigert die Speicherproduktion. SK Hynix introduces advanced EUV tech, shrinking transistors and boosting memory production.

SK Hynix hat als erster High NA EUV Lithografietechnologie für die Massenproduktion in seinem Werk M16 in Südkorea eingeführt. SK Hynix has become the first to introduce High NA EUV lithography technology for mass production at its M16 plant in South Korea. Dieses neue System, das TWINSCAN EXE:5200B von ASML, ermöglicht Transistoren 1,7-mal kleiner und Dichten 2,9-mal höher als bestehende EUV-Systeme. This new system, ASML's TWINSCAN EXE:5200B, allows for transistors 1.7 times smaller and densities 2.9 times higher compared to existing EUV systems. SK Hynix zielt darauf ab, Produktionsprozesse zu vereinfachen, die Weiterentwicklung des Speichers der nächsten Generation zu beschleunigen und mit dieser fortschrittlichen Technologie seine Marktposition zu stärken. SK Hynix aims to simplify production processes, accelerate next-gen memory development, and strengthen its market position with this advanced technology.