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flag Chinas SMIC testet selbstgebaute tiefe UV-Lithographiemaschine für 7nm-Chips, die darauf abzielt, die Abhängigkeit von US- und niederländischen Technologie zu verringern.

flag Chinas SMIC testet seine erste im Inland gebaute tiefe ultraviolette Lithografiemaschine, die vom Shanghai-Startup Yuliangsheng entwickelt wurde und die Fortschritte in Richtung Selbstständigkeit in der Halbleiterherstellung markiert. flag Die Maschine soll die 7nm-Produktion unterstützen und möglicherweise auf 5nm skalieren, obwohl die Ertragsraten aufgrund von Ausrichtungsproblemen niedrig bleiben. flag Diese Bemühungen, getrieben durch die steigende Inlandsnachfrage von KI-Firmen und den Druck der Regierung auf interne Technologie, zielen darauf ab, die Abhängigkeit von ausländischen Geräten, insbesondere von ASML, inmitten der laufenden US-Exportbeschränkungen zu verringern.

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