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China baut Prototyp-EUV-Lithografiemaschine, die die Chip-Unabhängigkeit inmitten globaler Einschränkungen fördert.
Anfang 2025 fertigten chinesische Forscher in Shenzhen einen Prototyp einer extrem ultravioletten (EUV) Lithografiemaschine an, ein wichtiger Schritt bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterchips durch die Reverse-Engineering-Technologie des niederländischen Unternehmens ASML-s.
Gebaut von ehemaligen ASML-Ingenieuren, erzeugt die Maschine EUV-Licht und arbeitet auf einem Werksboden, hat aber noch keine Arbeitschips produziert.
Das Projekt, Teil einer sechsjährigen nationalen Anstrengung unter der Leitung von Präsident Xi Jinpings Berater Ding Xuexiang und Beteiligung von Huawei und staatlichen Labors, zielt darauf ab, Halbleiter-Selbstversorgung inmitten der US- und niederländischen Exportkontrollen zu erreichen.
Während China noch vor großen technischen Herausforderungen steht, vor allem bei Präzisionskomponenten, deutet der Durchbruch darauf hin, dass der Fortschritt schneller sein könnte als frühere Schätzungen einer zehn Jahre langen Zeitlinie, wobei einige Experten jetzt einen Arbeitschip bis 2030 projizieren.
China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.