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TANAKA entwickelt neue Gold-Bump-Transfer-Technologie für empfindliche Halbleiter und ermöglicht damit eine kleinere, zuverlässigere Elektronik.
TANAKA Precious Metal Technologies hat für seine AuRoFUSETM Preforms eine neue Transfermethode entwickelt, die eine präzise Goldstoßbildung auf komplexen oder empfindlichen Halbleiteroberflächen ermöglicht.
Das Verfahren erzeugt Beulen auf einem Silizium-Transfer-Substrat mit geätzten Öffnungen, sichert sie während der Verarbeitung und verwendet wärmeinduzierte Schrumpfung, um sie für die Übertragung über Thermo-Kompressions-Bindung bei 150 °C und 10 MPa freizusetzen, gefolgt von einer endgültigen Bindung bei 200 °C und 20 MPa.
Dies überwindet Beschränkungen des direkten Beulens und der Photolithographie auf irregulären oder empfindlichen Substraten und bietet starke, stabile, verformungsarme Bindungen, die ideal für die Integration in Smartphones, LEDs, Automobilelektronik und MEMS mit hoher Dichte sind.
Die Technologie vermeidet das Löten von Kurzschlüssen und Plating-Schäden und unterstützt die miniaturisierte Elektronik der nächsten Generation und die Photonik-Integration.
TANAKA develops new gold bump transfer tech for delicate semiconductors, enabling smaller, more reliable electronics.