China fordert nationale Anstrengungen zur Entwicklung fortgeschrittener Lithographie bis 2030 inmitten von US-Tech-Einschränkungen auf. China urges national effort to develop advanced lithography by 2030 amid U.S. tech restrictions.

Chinesische Halbleiterführer drängen auf eine einheitliche nationale Anstrengung, bis 2030 fortschrittliche Lithografiesysteme zu entwickeln, um eine inländische Alternative zu ASML zu schaffen. Chinese semiconductor leaders are urging a unified national effort to develop advanced lithography systems by 2030, aiming to create a domestic alternative to ASML. Sie zitieren US-Beschränkungen auf Chiptechnologie, Fragmentierung in der chinesischen Industrie sowie Lücken in der EUV-Lithographie, EDA-Software und kritischen Materialien als zentrale Herausforderungen. They cite U.S. restrictions on chip tech, fragmentation in China’s industry, and gaps in EUV lithography, EDA software, and critical materials as key challenges. Zwar wurden Fortschritte bei den einzelnen Komponenten erzielt, doch bleibt die Integration eine Hürde. While progress has been made in individual components, integration remains a hurdle. Der Aufruf stimmt mit dem Drang Chinas nach technologischer Eigenständigkeit überein, wobei die Unterstützung der Regierung für die Forschungskoordination und Forschungs- und Entwicklungsplattformen betont wird. The call aligns with China’s push for technological self-reliance, with government support emphasized for research coordination and R&D platforms.